金融界2024年9月26日消息，国家知识产权局信息显示，联华电子股份有限公司申请一项名为“光刻机台系统及其液体存储槽的漏液检测方法”的专利，公开号CN 118689040 A，申请日期为2023年4月。

　　专利摘要显示，本发明提供一种光刻机台系统及其液体存储槽的漏液检测方法，其中该光刻机台系统包括：浸润光刻机台以及流体供应装置以及传感器。所述流体供应装置，供应液体给所述浸润光刻机台。所述流体供应装置包括至少一液体存储槽、连接所述液体存储槽的上液体管以及下液体管。传感器包括至少一液压计。所述至少一液压计，设置于所述液体存储槽的下部附近，连接所述下液体管与所述上液体管，用以测量所述液体存储槽的底部液压。所述液体存储槽的液面高度由所述液压计算出来。

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